專利名稱： 梭式窯可控制還原氣氛燒制陶瓷方法
公開（告）號： CN1834063
申請（專利）號： 200610034770.3
發(fā)明（設計）人： 張海文;曾令可;羅民華;王 慧;劉平安;
(申請)專利權（人）： 華南理工大學
內容：（摘要）本發(fā)明提供梭式窯可控制還原氣氛燒成陶瓷方法，步驟包括升溫、干燥、燒成、保溫、冷卻、出窯，在梭式窯溫度為500～1400℃，保溫30～60分鐘時，將盛有水敞口容器置于梭式窯下方的吸火口處，敞口容器的面積不小于吸火口的垂直投影面積。本方法可以很好的避免燒制陶瓷時的高溫氧化問題，大大提高青瓷產品的質量，節(jié)約燃料、減少污染；并且具有成本低，易操作等優(yōu)點。
主權項：梭式窯可控制還原氣氛燒成陶瓷方法，步驟包括升溫、干燥、燒成、保溫、冷卻、出窯，其特征在于：在梭式窯溫度為500～1400℃，保溫30～60分鐘時，將盛有1～2升水的敞口容器置于梭式窯下方的吸火口處，敞口容器的面積不小于吸火口的垂直投影面積。
